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专利名称：凹槽摆动式喷丸装置及凹槽摆动式喷丸处理方法专利类型：发明专利发明人：山本翔一,石川光男申请号：CN201010226295.6申请日：20100709公开号：CN101879704A公开日：20101110
摘要：本发明提供一种凹槽摆动式喷丸装置及凹槽摆动式喷丸处理方法，能够没有遗漏地处理被处理产品的表面，并在处理后完全排出，被高速抛射的弹丸不会向工作人员所在的外部漏出。在腔室(1)的内部经由两端的轴承能够摆动地支承凹槽(3)，该凹槽(3)形成为U字状的船底形状，在其底部开有弹丸能通过且被处理产品(W)不能通过的孔(31)。收纳在产品流通箱(Q)中的被处理产品(W)由斗式装载机(9)投入到凹槽(3)内。在凹槽(3)中收纳被处理产品(W)后使其摆动，同时从配置于上部的离心式抛射装置(4)抛射弹丸。弹丸在下部被回收，用斗式提升机(7)提升而进行循环使用。
申请人：新东工业株式会社
地址：日本爱知县
国籍：JP
代理机构：北京集佳知识产权代理有限公司
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