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专利名称：非导电性薄膜及其制备方法、镀膜基材专利类型：发明专利
发明人：俞峰,来华杭,王正安,杨德隆,周海龙申请号：CN202010425223.8申请日：20200519公开号：CN111763915A公开日：20201013
摘要：本申请公开了一种非导电性薄膜及其制备方法、镀膜基材，其中，非导电性薄膜包括光学层以及用于保护光学层的保护层，所述光学层包括依次叠加的第一光学层、第二光学层以及第三光学层，其中：所述第一光学层为WO薄膜层或者NbO薄膜层，使用状态下所述第一光学层附着于基底材料；所述第二光学层为Si薄膜层；所述第三光学层为InSn薄膜层，所述保护层附着于所述第三光学层。本申请提供的非导电性薄膜及其制备方法、镀膜基材，薄膜具有非导电性，不会带来电容干扰/屏蔽信号等不良反应；薄膜以及镀膜基材呈现金色/玫瑰金，颜色效果能达到要求；且非导电性薄膜的制备方法简单易实现。
申请人：浙江上方电子装备有限公司
地址：312366 浙江省绍兴市滨海新城畅和路7号
国籍：CN
代理机构：杭州合信专利代理事务所(普通合伙)
代理人：沈自军
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